詳細(xì)摘要： 化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備是世界zui通用和的臺式（CMP），可以很好的滿足您的研發(fā)需求。*軟件控制，可以對直徑4英寸的晶圓和磁盤進(jìn)行拋光?？蓹z測原位摩擦力，摩擦系數(shù)，溫...
產(chǎn)品型號：R-CP所在地：國外更新時(shí)間：2026-05-26 在線留言
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